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Descrição:CLOT Boutique
Sputtering é um novo tipo de método de Deposição Física de Vapor (PVD).
Sputtering is widely used in: flat panel displays, glass industry (include architectural glass, automotive glass, optical film glass), solar cells, surface engineering, recording media, microelectronics, automotive lights and decorative coating, etc..
O sputtering é usado principalmente em: telas planas, indústria de vidro revestido (incluindo vidro arquitetônico, vidro automotivo, vidro óptico e outros filmes), filme fino solar, engenharia de superfície (decorativa e ferramentas), (magnético, óptico) meio de gravação Microeletrônica luzes de carro, revestimento decorativo.
In the field of Rotatable Target, proposed the monolithic tube target in the year 2009,which has been recognized by domestic and foreign customers. We can provide the following sizes according to the requirements of customers:
Planar target: single weight:≤260kg, purity:≥99.97%
Alvo rotativo: OD:Φ140-180mm;ID:Φ125-Φ135mm. comprimento≤3300mm, pureza: ≥99.97%
Chemical Composition
| Conteúdo de Mo | A soma do conteúdo de outros elementos | Conteúdo de cada elemento |
|---|---|---|
| ≥99,97% | ≤0,03% | ≤0,001% |
