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Sputtering é um novo tipo de método de Deposição Física de Vapor (PVD).
Sputtering é amplamente utilizado em: monitores de tela plana, indústria de vidro (inclui vidro arquitetônico, vidro automotivo, vidro de filme óptico), células solares, engenharia de superfície, mídia de gravação, microeletrônica, luzes automotivas e revestimento decorativo, etc.
O sputtering é usado principalmente em: displays de tela plana, indústria de vidro revestido (incluindo vidro arquitetônico, vidro automotivo, vidro óptico e outros filmes), solar de filme fino, engenharia de superfície (decorativa e ferramentas), (magnético, óptico) gravação de luzes de carro Microeletrônica, revestimento decorativo.
No campo do alvo rotativo, propôs o alvo de tubo monolítico no ano de 2009, que foi reconhecido por clientes nacionais e estrangeiros. Nós podemos fornecer os seguintes tamanhos de acordo com as exigências dos clientes:
Alvo planar: peso único: ≤ 260 kg, pureza: ≥ 99,97%
Alvo rotativo: OD: Φ140-180mm; ID: Φ125-Φ135mm. comprimento≤3300mm, pureza: ≥99.97%
Composição química
| Conteúdo Mo | A soma do conteúdo de outros elementos | Conteúdo de cada elemento |
|---|---|---|
| ≥99,97% | ≤0,03% | ≤0,001% |
